光ファイバーレーザーラジウム彫刻機の紹介
光ファイバーレーザーラジウム彫刻機はレーザーを用いて一体化した全体構造を採用し、光学汚染と電力結合損失、空気冷却がなく、高効率、10万長寿命とメンテナンスが少ないなどの性能を備えている。光ファイバーレーザーラジウム彫刻機は当社が現在先進的なレーザー技術を用いて作成した次世代レーザーマーキングシステムである。光ファイバレーザを用いてレーザ光を出力し、高速走査振動鏡システムを経てマーキング機能を実現する。光ファイバーレーザーラジウム彫刻機は電気光学変換効率が高く、空冷方式で冷却し、全体の体積が小さく、出力ビームの品質が良く、信頼性が高い。彫刻可能な金属材料と一部の非金属材料は、主に深さ、平滑度、精細度に対する要求が高い分野、例えば時計、アクセサリー、金型業界、ビットマップのマーキングなどに応用されている。
光ファイバーレーザーラジウム彫刻機の特徴
光ファイバーレーザーラジウム彫刻機は主に台のパネルが大きく、比較的大きい製品のレーザー彫刻に対しても問題がない。台は二重層で1.5板金を厚くして作られ、荷重能力が大幅に向上し、長時間重量物を使用しても機械の変形を招くことがない。光ファイバーレーザーラジウム彫刻機は同様に光ファイバー特有のガイド性の良い特徴を用いて光ファイバー伝送の方式でLD光源をレーザーアイソレータに伝送し、拡大拡大して出力したレーザー光を用いて、出力した光束の品質は旧式の半導体レーザーより4倍以上優れており、光ファイバーレーザーラジウム彫刻機は光ファイバー伝送の高エネルギーレーザー光を通じて二次元走査振動鏡の揺動によってフォーカスレンズを通過した後、直接物体に照射して文字パターンを形成する。
光ファイバレーザラジウム彫刻機の装置構造解析
光ファイバレーザラジウム彫刻機パラメータ表
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へいきんしゅつりょく
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20W
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30W
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60W
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100W
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120W
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レーザ波長
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1064nm |
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パルス幅/Q周波数
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パルス幅調整可能1 ns-400 ns/1 KHz-2000 KHz |
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フルパワー周波数範囲
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25-400KHz |
25KHz-400KHz |
50KHz-400KHz |
67KHz-1000KHz |
80KHz-1000KHz |
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ひょうめんばん
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110×110 mmオプション(70 x 70 mm 150 x 150 mm 200 x 200 mm 300 x 300 mm) |
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くりかえしせいど
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<30?μrad |
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彫刻線速度
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≤7000mm/s |
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最小線幅
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0.01mm |
0.01mm |
0.03mm |
0.03mm |
0.03mm |
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最小文字高さ
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0.2mm |
0.04mm |
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れいきゃくほうしき
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ふうれい |
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全体寸法(L*W*H)
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800mm×680mm×1200mm |
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電源装置
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AC 220V 50KHz |
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アップグレード可能
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電動昇降手動2次元テーブル電動2次元テーブル回転治具赤色光合焦 |
光ファイバレーザーラジウム彫刻機の応用範囲
光ファイバーレーザーラジウム彫刻機の応用範囲は主にすべての金属物件及び一部の非金属物件に応用され、主な応用分野は:包装材料、電子部品である。金属工具、宝飾品、電子通信、ICチップ、蒸気摩擦部品などの業界、適用:高硬質合金、酸化物、めっき材料、ABS,エポキシ樹脂、エンジニアリングプラスチックなどの材料。
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