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電話
13380036316
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住所
広州市天河区燕嶺路25号1009室
多孔質シリコン窒素系酸化グラフェン支持膜
酸化グラフェンは多孔質窒化ケイ素上に敷設され、多孔質窒化ケイ素の孔径は2.5um、穴間距離は4.5um,Si3N4の膜厚は200nm、ウィンドウサイズ0.5x0.5mm。
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超平坦シリカ系酸化グラフェン支持膜 |
多孔質窒化ケイ素系酸化グラフェン支持膜 |
単層酸化グラフェンマイクログリッド支持膜 |