ナノ材料焼成炉

ナノ材料焼成炉焼結過程における炉内材料のナノ材料に対する汚染及びしんくうぬき和注放雰囲気時ナノ材料の飛揚問題。

①真空度：6.67×10^-3Pa；

②炉内容積：φ60-100×600 mm、

③定格温度：1400℃、1600℃、1750℃、

④雰囲気質量流量を自動的に制御する、

⑤プログラム制御温度。

この装置は焼結過程における炉内材料対の解決に成功したナノ材料の汚染及び真空引き及び注放雰囲気時のナノ材料の飛揚問題。

①真空度：6.67×10^-3Pa；

②炉内容積：φ60-100×600 mm、

③定格温度：1400℃、1600℃、1750℃、

④雰囲気質量流量を自動的に制御する、

⑤プログラム温度制御。

このデバイスは正常に解決されましたしょうけつプロセス中の炉内材料のナノ材料への汚染及び真空引きと注入雰囲気時のナノ材料の舞い上がり問題。

①しんくう度：6.67×10^-3Pa；

②炉内容積：φ60-100×600 mm、

③定格温度：1400℃、1600℃、1750℃、

④雰囲気質量流量を自動的に制御する、

⑤プログラム温度制御。